istanbul-ticaret-gazetesi
istanbul-ticaret-gazetesi

Çin’den ‘Mini EUV’ sistemiyle 14 nm çip denemesi

Çinli araştırmacıların geliştirdiği masaüstü boyutundaki EUV ışık kaynağı, küçük ölçekli 14 nm çip üretimi ve yarı iletken araştırmaları için düşük maliyetli bir alternatif olarak öne çıktı.

Giriş: 24.11.2025 - 17:13
Güncelleme: 24.11.2025 - 17:13
Çin’den ‘Mini EUV’ sistemiyle 14 nm çip denemesi

Çinli araştırmacıların, 14 nanometre mikroçip üretmek için masaüstü boyutunda yeni bir aşırı ultraviyole litografi (EUV) ışık kaynağı geliştirdiği bildirildi. Yeni sistem, ticari üretimde kullanılan gelişmiş ASML makinelerinin yerini almasa da, küçük parti üretim ve Ar-Ge uygulamaları için dikkat çeken bir seçenek olarak değerlendiriliyor.


YENİ IŞIK KAYNAĞININ ÖZELLİKLERİ

Raporlara göre cihaz, yalnızca prototip üretimine uygun olmakla kalmıyor; çip denetimi, kuantum çip prototipleme ve fotomaske kusur tespiti gibi işlevlerde de kullanılabiliyor. Sistem, ASML’nin kalay damlacıklarını patlatarak plazma üreten LPP yönteminden farklı olarak, argon gazına femtosaniye lazer ateşleyerek yüksek harmonik üretimi (HHG) ile EUV oluşturuyor.


AYNALARA İHTİYAÇ DUYMAYAN TASARIM

HHG tabanlı bu yaklaşım, dev toplayıcı aynalar gerektirmediği için sistemin boyutunu ve karmaşıklığını önemli ölçüde azaltıyor. Ayrıca 1 nm ile 200 nm arasında ayarlanabilir dalga boyları üretebiliyor. Güç tüketimi de oldukça düşük; makinenin yalnızca yaklaşık 1 mikrowatt EUV gücü kullandığı belirtiliyor. Bu miktar, üretim hattı için gerekli olan güçten milyonlarca kat daha az.


KÜÇÜK PARTİ ÜRETİM VE AR-GE KULLANIMI

Düşük güç nedeniyle cihazın ticari ölçekte çip üretiminde kullanılması mümkün değil. Ancak pozlama penceresinin küçük olması, fotomaske inceleme, transistör yapılarının denetimi ve deneysel çipleri pozlama gibi alanlarda yüksek verim sağlıyor. Sistem, ofis masasına sığabilecek boyutlarda ve maliyeti, endüstriyel ASML makinelerine kıyasla oldukça düşük.


TEKNOLOJİK BAĞIMSIZLIK HEDEFİ

Çin, üst düzey ASML EUV makinelerine erişemediği için bu tür kompakt sistemlere ihtiyaç duyuyor. Yeni makinenin, 13,5 nm dalga boyunda HHG tabanlı EUV kaynağı oluşturabilmesi, araştırma ortamlarında önemli bir bağımsızlık sağlıyor. Uzmanlar, teknolojinin ölçeklenmesi halinde 14 nm ve 28 nm üretim verimliliğini artırabileceğini; ayrıca çip denetimi ve maske hizalamasında kritik rol oynayabileceğini belirtiyor.


Yeni sistemin, Çin’in yarı iletken Ar-Ge faaliyetlerinde Batılı araçlara bağımlılığı azaltma ve yaptırım kısıtlamalarını aşma hedefi kapsamında önemli bir adım olduğu değerlendiriliyor.