ABD çip endüstrisi, yarı iletken imalatında kullanılan litografi ekipmanları segmentinde büyük bir devrimden geçiyor. Ülkenin bu alanda Hollandalı ASML’ye olan büyük bağımlılığını sona erdirmeyi planlayan ‘Substrate’ adlı bir girişim, ASML’nin EUV makineleriyle rekabet edebilecek yerli bir teknoloji geliştirmeyi hedefliyor.
Bloomberg’in yeni raporuna göre, geleneksel aşırı ultraviyole (EUV) ışığı kullanmak yerine, bir parçacık hızlandırıcı tarafından üretilen daha kısa dalga boylu X-ışınlarından yararlanmayı planlayan Substrate, sektörde iyimserlik ve şüphecilik karışımıyla karşılandı.
100 MİLYON DOLARLIK YATIRIM
Substrate, Peter Thiel'in Founders Fund'ı da dahil olmak üzere yatırımcılardan 100 milyon dolar yatırım aldı. Şirket, yalnızca gelişmiş litografi araçları konseptine dayanarak şimdiden 1 milyar dolar değerlemeye ulaştı.
Girişim, benzersiz tekniğiyle ASML'nin mevcut EUV ekipmanlarını kullanmanın maliyetlerini düşürebileceğini iddia ediyor. Şirket, teknolojisini medyaya tanıtırken, uzmanlar bunu etkileyici bir girişim olarak nitelendirdi.
X-IŞINI İLE MALİYET AVANTAJI
Uygulamanın özüne inen Substrate, 13,5 nm EUV'den daha kısa dalga boyuna sahip olan ve daha sağlam bir çoklu desenleme sağlayan X-ışınını kullanmayı planlıyor. Girişim, sağlam bir maske/rezist akışı kullanarak çip litografi maliyetlerini önemli ölçüde düşürmeyi başardığını iddia ediyor.
Ancak Substrate'in başarısı, girişimin X-ışını tekniğini yongaların Yüksek Hacimli İmalatı (HVM) ile uygulayıp uygulayamayacağına bağlı olacak. EUV teknolojisinin sektörde ne kadar olgunlaştığı göz önüne alındığında, Substrate'in tekniklerini erken benimsemesi zor olabilir. Sektör uzmanları, bu hamlenin Amerikan çip endüstrisine litografi sektöründe ‘yerli’ bir alternatif kazandırmak açısından harika bir adım olduğunu, ancak ASML'ye bağımlılığı azaltma iddiasının şimdilik gerçekçi olmadığı yönünde görüş bildiriyor.
