Langdao Silex Çin'in yerli EUV ışık kaynağını duyurdu: ASML tekeli kırılır mı?

Langdao Silex, prototipini Şanghay’daki 26. Çin Uluslararası Endüstri Fuarı’nda (CIIF) tanıttı. Şirket, yarı iletken üretiminde kullanılan aşırı morötesi (EUV) ışık kaynağının kritik parçalarının büyük bölümünü bağımsız Ar-Ge çalışmalarıyla ürettiğini açıkladı. Gelişme, Çin’in Hollandalı ASML’ye bağımlılığını azaltma yönünde somut bir adım olarak değerlendirilse de uzmanlar, bağımsız bir litografi cihazına ulaşmak için zamana ihtiyaç bulunduğunu vurguluyor.

LAZERLE PLAZMA ÜRETİMİ 

FlintNano LPP-OXXO, ASML ve diğer küresel üreticilerin de kullandığı, yüksek güçlü lazerlerle plazma oluşturup EUV ışığı üreten LPP teknolojisine dayanıyor. Şirketin verilerine göre sistem, 1.000 watt lazer sürücü gücü, 1–20 kHz tekrarlama hızı ve yüzde 2’nin üzerinde dönüşüm verimliliği sunuyor.

EUV çıkış gücü en az 15 watt olan prototipin, 100 saati aşan kesintisiz çalışma kabiliyeti vadettiği belirtiliyor. Plazma boyutu 60 mikron, plazma kararlılığı yüzde 3 RMS ve enerji kararlılığı yüzde 5 olarak açıklanan sistemin, yarı iletken plaka pozlama testlerine uygun seviyede olduğu ifade ediliyor.

ÜRETİM VE ENTEGRASYON 

Şirket temsilcileri, ışık kaynağının ticari seri üretimi için en az üç ila beş yıllık geliştirme gerektiğini öngörüyor. Sektör analistleri ise tam bir EUV litografi cihazının ultra hassas optikler, vakum odaları, plaka taşıyıcıları ve karmaşık sistem entegrasyonu gerektirdiğine dikkat çekiyor. ASML’nin mevcut makineleri, 800’den fazla küresel iş ortağından gelen yüz binlerce parçadan oluşuyor.

Çin’in derin morötesi (DUV) ekipmanlarının dahi henüz küresel rekabet seviyesine ulaşmaması nedeniyle tam sistem geliştirme takviminin sekiz ila on yıla uzayabileceği değerlendiriliyor. Zeiss CEO’su gibi önde gelen tedarikçiler ise Çin’in bağımsız EUV litografi kapasitesine ulaşmasının 15 yılı bulabileceği görüşünde.

İHRACAT KISITLAMALARININ ETKİSİ 

ASML için kısa vadede bu gelişmeden kaynaklanacak pazar kaybı beklenmiyor. Şirket açısından başlıca belirsizliği, ABD’nin DUV ekipmanlarına yönelik planladığı ek ihracat kısıtlamaları oluşturuyor.

ASML’nin yıllık satış gelirlerinin yaklaşık yüzde 20’sini sağlayan Çin pazarında kısıtlamaların sıkılaşması, finansal dengeleri etkileyebilir.

Çin’in dış kaynaklara erişiminin sınırlandırılması da Pekin’i yarı iletken ekipmanlarında yerli Ar-Ge ve bağımsız üretim yatırımlarını hızlandırmaya yöneltiyor.