istanbul-ticaret-gazetesi
istanbul-ticaret-gazetesi

Çip üretiminde devrim: DirectDrive ile 100 kat hızlı plazma kontrolü

Yarı iletken üretiminde yeni bir çağ başlatan DirectDrive teknolojisi, plazmayı 100 kat hızlı kontrol ederek çip desenleme hatalarını en aza indiriyor. 20 yıllık araştırma sonucunda geliştirilen bu sistem, yapay zeka donanımlarında büyük fark yaratacak.

Giriş: 20.05.2025 - 13:37
Güncelleme: 20.05.2025 - 13:37
Çip üretiminde devrim: DirectDrive ile 100 kat hızlı plazma kontrolü

Yarı iletken üretiminde çığır açan yeni bÇip üretiminde devrim: DirectDrive ile 100 kat hızlı plazma kontrolü


ir teknoloji olan DirectDrive, sektördeki aşındırma süreçlerine benzeri görülmemiş bir hassasiyet kazandırıyor. Söz konusu yöntem, çip üretiminde kullanılan plazmayı 100 kat daha hızlı tepkiyle kontrol ederek desenleme hatalarını önemli ölçüde azaltıyor. Bu yenilik, özellikle kompakt ve yüksek performanslı yapay zeka sistemlerinde kullanılan gelişmiş çiplerin üretimini kolaylaştıracak.


PLAZMA KONTROLÜNDE DEVRİM

DirectDrive, plazma aşındırma işlemlerinde kullanılan radyo frekansı (RF) enerjisinin saniyede binlerce kez açılıp kapatılarak kontrol edilmesini sağlıyor. Bu sayede plazmanın davranışı üzerinde çok daha hassas bir denetim elde ediliyor. Geleneksel sistemlerde güç seviyeleri arasında geçiş milisaniyeler sürerken, DirectDrive bu değişimi yalnızca 50 mikrosaniyede tamamlayabiliyor.


UZUN SOLUKLU GELİŞTİRME SÜRECİ

Teknolojinin temelleri, Kaliforniya Üniversitesi Los Angeles (UCLA) mühendisi Patrick Pribyl’in 2006 yılında ortaya attığı fikirle atıldı. Pribyl, aşındırma işlemi sırasında plazmanın daha etkili kontrol edilmesi için RF enerjisini yönetebilen bir sistem tasarladı. İlk prototipini kendi mutfağında inşa eden Pribyl, daha sonra UCLA fizikçisi Walter Gekelman ile ortaklık kurarak araştırmayı kurumsal seviyeye taşıdı.

Çip üretiminde devrim: DirectDrive ile 100 kat hızlı plazma kontrolü

BİLİMSEL ALTYAPI VE ORTAKLIK

Yıllar süren bu süreçte araştırma ekibi, lazerler ve özelleştirilmiş düzenekler aracılığıyla plazma altındaki iyon davranışlarını gözlemledi. RF enerjisini geleneksel uygulamalardan çok daha yüksek güçlü biçimde kullanarak plazmayı istenen yoğunluk ve hareket seviyelerinde tutmayı başardılar. Sonuç olarak, RF enerjisini darbeleyerek daha kesin ve hızlı kontrol elde etmenin mümkün olduğu keşfedildi.


YARI İLETKENLERE YENİ STANDART

Bu teknolojik sıçramayla birlikte, tırnak büyüklüğündeki silikon bloklara milyarlarca kez desen oyma işlemi artık çok daha az hata ile gerçekleşebilecek. Lam Research tarafından patenti alınan DirectDrive, özellikle aşırı ultraviyole (EUV) litografi gibi ileri seviye üretim tekniklerinde daha az desenleme hatasına neden oluyor.


ENDÜSTRİYE YANSIMALARI

Lam Research tarafından yapılan açıklamada, DirectDrive’ın “sektörün ilk katı hal plazma kaynağı” olduğu ve geleneksel sistemlere kıyasla 100 kat daha hızlı plazma tepkimesi sağladığı vurgulandı. Teknolojinin sektördeki etkisi, her yıl dünya üzerindeki her birey için bir inç kare silikon üretildiği gerçeğiyle daha net anlaşılıyor.

Çip üretiminde devrim: DirectDrive ile 100 kat hızlı plazma kontrolü


GELECEK ADIMLAR

Araştırmacılar, DirectDrive’ın daha da verimli hale getirilmesi için çalışmalara devam ediyor. Teknolojinin, yüksek hassasiyet gerektiren çip üretiminde yeni bir endüstri standardı haline gelmesi bekleniyor. Ultra hızlı işlemciler ve yeni nesil yapay zeka donanımları için bu seviyede kontrol sağlayan bir sistem, üretim kalitesi ve verimliliği açısından kritik rol oynayacak.